陶瓷封装技术介绍

        陶瓷封装是一种采用陶瓷材料作为主体,通过特定工艺将电子元件固定在陶瓷基板上,并使用陶瓷外壳进行密封的封装技术。与常见的有机封装相比,陶瓷材料因其稳定的热、电、机械特性,成为集成电路芯片封装的理想选择。它能提供气密性的密封保护,有效隔绝外部环境中的湿气、氧气和污染物,从而延长元器件使用寿命,提高产品可靠性。同时,陶瓷封装还具有优良的导热性能和机械强度,能够承受高温、高压等恶劣工作环境,确保元器件稳定运行。

陶瓷封装的独特性能优势

        陶瓷封装的核心价值在于其一系列优异的物理与化学特性:

        高耐热性:能在高温环境下保持稳定性能,不会因温度升高导致性能下降。

        高耐湿性与耐腐蚀性:具有良好的防水防潮性能,对酸、碱、盐和有机溶剂等化学物质具有很好的耐腐蚀性,适用于湿度大或腐蚀性环境。

        高耐电磁干扰性与出色电性能:具有优异的电磁屏蔽能力和较低的电阻率、较高的绝缘性能,能有效抑制电磁干扰和信号串扰,适合高频应用。

        优异的机械强度与稳定性:陶瓷材料硬度高、抗冲击性能好,能有效保护芯片免受外界物理冲击。

        低热膨胀系数与高导热性:陶瓷材料的热膨胀系数小,与芯片材料相近,有利于提高封装可靠性;高热导率则确保了良好的散热性能。

        卓越的气密性:属于气密性封装,能防止潮气进入内部污染芯片。

        这些特性使陶瓷封装如同为芯片提供了全方位的“硬核”防护,特别适用于对可靠性、稳定性和环境耐受性要求极高的场合。

陶瓷封装的主要类型

        根据材料、加工工艺和结构特点,陶瓷封装主要有以下分类:

1.按材料分类

        氧化铝(Al2O3):应用最广泛,具有良好的绝缘性、机械强度和相对较低的成本。

        氮化铝(AlN):具有极高的热导率,远优于氧化铝,适用于高功率密度、散热要求苛刻的器件。

        碳化硅(SiC):具有优异的高温稳定性、高热导率和高硬度,适用于极端环境。

2.按基板加工工艺分类

        高温共烧陶瓷(HTCC):在高温(约1600°C)下共烧陶瓷生胚和钨/钼/锰等高熔点金属浆料。具有高热导率和良好的绝缘性能,机械强度高,适用于高功率和高温环境。

        低温共烧陶瓷(LTCC):在较低温度(约850°C)下共烧陶瓷生胚和导电率更高的金、银等金属浆料。可实现更复杂的多层布线,适用于高频、多引脚器件。

        直接镀铜基板(DPC):利用薄膜工艺(溅射、电镀/化学镀)在陶瓷基板(主要是AlN)上形成电路图形。精度高,适用于高精度电路制造。

        直接键合铜(DBC):通过高温加热使铜箔与陶瓷(主要是Al2O3, AlN)表面共晶键合。铜层厚,载流能力与散热性能极佳,广泛应用于功率模块。

        活性金属钎焊(AMB):使用含活性元素(如Ti, Zr)的焊料在真空或惰性气氛中实现金属(主要是铜)与陶瓷(主要是Si3N4, AlN)的高强度连接。结合强度、热循环性能和可靠性优于DBC,特别适用于要求苛刻的功率半导体封装。

3.按封装结构形式分类

        插针网格阵列封装(PGA):底部为排列成方形的插针,可插入或焊接到电路板插座中,常见于微处理器,适合需要频繁插拔的场合。

        球栅阵列封装(BGA):底部以焊球阵列代替引脚,具有高密度、焊接可靠、散热好等特点,广泛应用于微处理器、存储器等领域。

        双列直插封装(DIP):引脚从封装两侧引出,可直接焊接在DIP插座上。

        无引线芯片载体(LCC):表面贴装型封装,引脚(或无引脚焊盘)从四个侧面引出,适用于高速和高频IC。

        四边扁平无引线封装(QFN):表面贴装型,无引脚,底部中央有大面积散热焊盘,具有体积小、重量轻、散热好的优点。

        四方扁平封装(QFP):引脚从四边引出,适合高频应用,具有较好的信号完整性和较低的电感效应。

陶瓷封装的核心工艺流程

        陶瓷封装(以氧化铝HTCC为例)的制造流程复杂而精细,主要包括以下关键步骤:

        生胚片制作:将陶瓷粉末、黏着剂、塑化剂和有机溶剂等均匀混合制成浆料,通过刮刀成型机刮制成厚度均匀(通常0.2-0.28mm)的薄带。刮刀间隙、输送带速度、干燥温度等因素对生胚片厚度和均匀性至关重要。

        冲片:将干燥的生胚片用精密模具切割成所需尺寸的薄片,并在四边冲出对位孔供后续叠片对齐。

        导孔成型:在生胚片上制作垂直导通孔。常用机械冲孔、钻孔或激光钻孔(如CO2激光,速率50-100孔/秒)完成,孔径通常在80-200微米。

        厚膜导线成型:采用厚膜网印技术在生胚片上印刷电路布线图形并填充导孔,形成导电通路。

        叠压:对于多层基板,将完成金属化的生胚片按设计叠压成多层结构。叠压压力会影响生胚片孔洞分布和烧结收缩率(收缩率通常随压力增加而减小),是控制尺寸精度的关键。

        烧结:将叠压好的多层生胚片在高温(HTCC约1600°C)下烧结成致密坚固的结构。需精确控制炉内气氛、升温速度和保温时间。烧结必然导致收缩和可能发生曲翘(常用重物压制防止变形),陶瓷与金属膏的收缩率匹配度、热膨胀系数匹配度及炉温均匀性对成品尺寸影响极大。

        表层电镀与引脚接合:在烧结后的基板表层制作最终电路、键合点或电阻。科瓦合金(Kovar)引脚通过金锡或铜银共晶硬焊技术焊接至基板焊盘(焊料置于其间,在还原气氛中加热至共晶温度以上完成)。若引脚需二次焊接,表面会再浸镀焊锡。(来源:三、陶瓷封装工艺流程详解 – 各步骤详细描述)

应用领域与未来挑战

        凭借其高可靠性、优异的热管理能力和环境耐受性,陶瓷封装广泛应用于航空航天、军事设备、医疗设备(尤其是植入式)、高端通信设备(如基站放大器、卫星通信)以及功率电子(如IGBT模块)等高性能要求的领域。

        然而,陶瓷封装也面临挑战:工艺温度高、成本相对昂贵、工艺自动化程度和薄型化能力通常不如塑料封装。陶瓷材料的脆性也使其易受应力损害。在追求低介电常数和高布线密度的应用中,还需与薄膜封装竞争。

        未来发展需聚焦于:改进陶瓷粉末制备和烧结技术以降低工艺温度与成本;引入先进自动化设备和工艺优化提升效率和薄型化能力;开发低脆性陶瓷材料和优化结构设计以提高抗应力损伤能力。

作者:极客石头

在搞事情的路上越走越远。

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