主要探讨了铜(Cu)互连技术的扩展及其面临的挑战,以及后铜(Post-Cu)替代金属互连技术的潜在解决方案。内容分为两个主要部分:首先是关于铜互连技术的扩展,详细讨论了在铜互连技术缩放过程中遇到的三大主要挑战——铜填充缺陷、线电阻增加和电迁移(EM)性能退化,并介绍了相应的关键解决方法。
又一个WordPress站点
主要探讨了铜(Cu)互连技术的扩展及其面临的挑战,以及后铜(Post-Cu)替代金属互连技术的潜在解决方案。内容分为两个主要部分:首先是关于铜互连技术的扩展,详细讨论了在铜互连技术缩放过程中遇到的三大主要挑战——铜填充缺陷、线电阻增加和电迁移(EM)性能退化,并介绍了相应的关键解决方法。