光学系统所处的环境温度波动会影响系统的多个结构参数，透镜曲率半径因材料热胀冷缩发生变化，光学材料折射率随温度变化，也就是dn/dT特性，这一点在进行光学软件优化的过程中都会有所涉及，空气间隙随温度改变，上述效应共同导致系统焦平面位置偏移。
光学系统的无热化方式主要分为主动式无热化和被动式无热化两大类，通过光学材料和机械材料的组合尽可能减少温度带来的焦平面的偏移称为被动式无热化，也是本文向大家介绍的无热化方式。
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在室温下首先对光学系统进行优化，优化完成的光学系统如图所示。
通过CODEV进行无热化设计需要用到其自带的三个宏，打开宏管理器找到其下的环境建模，其中有三个宏，分别用于进行dn/dt的计算，不同温度组态的设置，以及材料属性的设置。
首先对第一个名为dndtcalc的宏进行设置，第一个宏的作用是进行dn/dt的计算和设置，注意这里需要输入的系统温度、工作波段、波段的数目都需要与之前优化光学系统时系统参数设置中的温度和波段保持一致。
在完成设置后点击确定，codev便已自动生成相应的计算完成的seq文件了，根据提示“Sequence ENVANA.SEQ has been written”去相应的工作目录下寻找到ENVANA.SEQ文件，文件内容如图所示，可以看到codev已经帮我们计算好了相应的dn/dt的数值，稍后这些数据都需要使用。
其次是第二个宏，编辑名为therm_env的宏文件，根据描述，在这个文件中需要给出DN/DT，EXP等相应信息。DN/DT的计算已经在上文中给出，直接复制粘贴到这里就可以，相应的还给出了每个材料的EXP值，需要注意的是在codev中其单位是E-7，这一点与ZEMAX中的E-6是不同的，输入时需要注意，对于不同材料具体的EXP值，可以在材料库商家给出的玻璃文件中查到，对ZEMAX熟悉的朋友也可以在ZEMAX玻璃库中检索。最后给出AIR的EXP为236，此处依旧假设机械结构采用铝合金，详细解释在上一篇ZEMAX无热化中给出，此处不再赘述。
这样第二个宏也已经设置完成。需要注意的是，这两个宏在完成设置后必须要和工作文件放置于同一个工作目录下，才能运行。第三个宏主要用于设置需要进行无热化设置的温度范围，运行thermpik宏，按照指标要求，我们输入最低温度-40℃，最高温度60℃即可。
设置完成后如图所示左上角给出了不同的温度状态，根据不同的光学系统需求可以自由添加状态的数量以及修改名称。修改的办法是点击Z，会出现如下图所示的界面，其中名称和数量均可删增。
当把状态改成+60℃，可以看到此时的玻璃已经变成了’HZF12+60’的状态，如下图所示。
这是codev系统相当于根据温度的变化和用户定义的EXP值定义了60℃状态下一个新的玻璃，因此这个玻璃名称也是可以由用户调用的。假使需要更多的变焦状态，在输入状态后，便需要将玻璃也改到对应的温度下，同时右键拾取即可更改其拾取状态，可以根据不同的场景需要进行设置。
在所有设置修改完成以后，MTF会发生明显下降，可以再进行一下优化，优化之后的圈入能量图如下图所示，可以看到在不同的温度状态下圈入能量均达到较高水平，满足设计要求。
